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#Tendencias de productos
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El nuevo CMP de TriboLab proporciona la caracterización rentable de los procesos de pulido de la oblea mecánica química
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Plataforma del estándar industrial CP-4 de las actualizaciones de Bruker para la mayoría de la prueba flexible y confiable
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La división nana de las superficies de Bruker anunció hoy la introducción del sistema del proceso del CMP de TriboLab y de la caracterización material, que proporciona una capacidad única de la caracterización para el desarrollo de los procesos de pulido mecánicos químicos (CMP) en la plataforma de prueba mecánica robusta probada de UMT TriboLab™. El nuevo sistema del CMP de TriboLab es la única herramienta en el mercado que puede proporcionar una amplia gama de RPM de pulido de la presión (0.05-50 PSI), de las velocidades (1 a 500), fricción, las emisiones acústicas, y las medidas de la temperatura superficial para la caracterización exacta y completa de los procesos y de los materiales consumibles del CMP.
El “CMP es más crítico que nunca para la fabricación avanzada del dispositivo de semiconductor. La industria ha estado pidiendo medios de caracterizar con eficacia las interacciones detalladas del proceso y de los materiales consumibles que ocurren mientras que pule una amplia gama de materiales,” dijo al Dr. Robert Rhoades, CTO de Entrepix, un proveedor principal del equipo y de la oblea que procesaban servicios a la industria del CMP. “Estamos satisfechos al socio con Bruker y ayudamos al lanzamiento de la plataforma del CMP de TriboLab. Con la adición de este nuevo sistema a nuestras capacidades, nos contrapesan para proveer de una solución confiable del R&D para la prueba y la caracterización de interacciones complejas entre los cojines, las mezclas, el condicionamiento, y parámetros de proceso repetibilidad y el detalle incomparables.”
“Bruker ha suministrado los instrumentos para este uso por bastante por encima de una década, y nos encantan para introducir el CMP de TriboLab como el último producto de la generación de esta familia. El CMP de TriboLab ha demostrado ya capacidades superiores en los sitios de cliente en algo del desarrollo de usos más desafiador del CMP de la industria del semiconductor,” añadió a James Earle, vicepresidente y director general de la tribología de Bruker, de la aguja y del negocio óptico de la metrología. “Es la única herramienta en el mercado que puede proporcionar las gamas de pulido amplias de la presión y de velocidad, los datos de la emisión acústica, la fricción, y la temperatura superficial para la caracterización exacta y completa de los procesos y de los materiales consumibles del CMP.”
Sobre el CMP de TriboLab
Empleado la plataforma mecánica industria-probada del probador de UMT TriboLab, la exactitud de sistema del CMP de TriboLab y la repetibilidad de la medida permite la calificación altamente eficaz, la inspección, y la prueba en curso de la función requerida en el proceso del CMP. El CMP de TriboLab entrega los diagnósticos a bordo estándar para una mejor comprensión de procesos de pulido, proporcionando radicalmente más visibilidad en propiedades de pulido transitorias. Los datos se recogen de en cuanto el substrato toca el cojín y en la prueba entera, permitiendo decisiones de desarrollo de proceso de la temprano-etapa con datos más completos, más detallados. El sistema también permite el probar en los pequeños vales para el ahorro en costes sustancial sobre la prueba de la entero-oblea.