{{{sourceTextContent.title}}}

Park Systems anuncia Park NX-Mask, una reparación de fotomáscaras para EUV y en línea

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Sistema de reparación de fotomáscaras para la reparación de máscaras EUV de alta gama

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Park Systems, líder mundial en la fabricación de microscopios de fuerza atómica, ha anunciado Park NX-Mask, el equipo de reparación de fotomáscaras de nueva generación más eficaz, seguro y eficiente.

Park NX-Mask ofrece soluciones optimizadas que admiten vainas dobles para el manejo de máscaras EUV en la producción en línea. Proporciona una solución integral, desde la revisión automática de los defectos hasta la reparación y verificación de la misma, acelerando el rendimiento con una eficacia de reparación sin precedentes

"Park NX-Mask es el sistema de reparación de fotomáscaras basado en AFM más avanzado para la fabricación de semiconductores EUV de alta gama, así como para I+D y talleres de máscaras. Además, es el sistema más asequible del mercado", afirma Richard Lee, Jefe de la División de Marketing de Productos de Park Systems.

Park NX-Mask repara incluso las fotomáscaras más complejas eliminando los defectos y las partículas extrañas con una precisión nanométrica y de nivel angstrom en la colocación de los bordes. Lo hace sin alterar el patrón de la superficie reflectante ni las deposiciones espurias, incluidas las manchas y los elementos implantados.

La revisión automática de defectos viene de serie en Park NX-Mask, una característica muy útil para las retículas de las máscaras EUV, para obtener un alto rendimiento, una alta resolución y sin los riesgos destructivos que suponen otros métodos, como el haz de luz electrónico y el láser. Además, Park NX-Mask ofrece una nanometrología AFM totalmente automatizada para la rugosidad de la superficie y la altura del paso del patrón. Lo hace con una precisión vertical sub-angstrom en modo de escaneo sin contacto.

Para más información sobre Park NX-Mask: http://parksystems.com/nx-mask/