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Fuente de alimentación de alto voltaje Wisman utilizada en litografía por haz de electrones

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Especificación de la aplicación

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La litografía por haz de electrones es el uso de equipos de procesamiento por haz de electrones y tecnología de microscopía electrónica de barrido para producir máscaras de semiconductores para la producción de LSI. La litografía por haz de electrones también se conoce como litografía por haz de electrones (litografía EB) o EBL. Una máscara, también conocida como careta, actúa como una película fotográfica a modo de sustrato para transferir el patrón de circuito de un componente electrónico a un chip u otro objeto a transferir.

En la litografía por haz de electrones, un haz de electrones (haz E) emitido por un cañón de electrones es enfocado por una lente electrónica en un punto de luz muy pequeño. Controlando el movimiento del haz de electrones convergente y el movimiento de la platina según el patrón litográfico, se electrolitografía el material litográfico. El control del haz de electrones y de la platina se basa en el equipo de procesamiento del haz de electrones y en la tecnología de microscopía electrónica de barrido.

El cañón de electrones y la lente de electrones necesarios para el equipo de litografía por haz de electrones requieren una fuente de alimentación de alta precisión y alto voltaje para funcionar.

La serie 3D de fuentes de alimentación de alto voltaje de Wisman está diseñada específicamente para alimentar las lentes de electrones de los cañones de electrones y los dispositivos de litografía por haz de electrones. Estas fuentes de alimentación de alta tensión también pueden personalizarse para satisfacer las necesidades del cliente.

Wisman dispone de una gama de fuentes de alimentación para litografía por haz de electrones. Ejemplo: 3D; 3DA; EM ; SEM.