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Tecnología de Metalizado por Evaporación de Arco Catódico

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Equipo de Metalizado Iónico Multi-Arco

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Royal Technology sirve a nuestros clientes con la más avanzada Tecnología y Máquinas de Recubrimiento de Arco Catódico

Información de carácter general

1. El recubrimiento iónico utiliza bombardeo energético de partículas concurrente o periódico de la película depositante para modificar y controlar la composición y propiedades de la película depositante.

2. El material depositado puede ser vaporizado ya sea por evaporación, chisporroteo, vaporización por arco u otra fuente de vaporización.

3. Las partículas energéticas utilizadas para el bombardeo suelen ser iones de un gas inerte o reactivo, o iones del material depositado (iones de película).

4. El metalizado iónico puede realizarse en un entorno de plasma en el que se extraen iones para bombardeo del plasma

Ventajas del metalizado iónico

1. La energía significativa es introducida en la superficie de la película depositada por el bombardeo de partículas energéticas.

2. La cobertura de la superficie puede mejorarse con la evaporación al vacío y la deposición por pulverización debido a la dispersión del gas y a los efectos de " re-deposición por pulverización ".

3. El bombardeo controlado se puede utilizar para modificar las propiedades de la película, tales como la adhesión, la densidad, la tensión residual de la película y las propiedades ópticas.

4. Las propiedades de la película dependen menos del "ángulo de incidencia" del flujo del material depositado que con la deposición por pulverización y la evaporación al vacío debido a la dispersión de gas, los efectos de "pulverización/deposición" y el "granallado atómico".

5. El bombardeo puede ser utilizado para mejorar la composición química del material de película por medio de " reacciones químicas potenciadas por bombardeo " y el chisporroteo de especies no reaccionadas de la superficie en crecimiento.

6. En algunas aplicaciones el plasma puede ser utilizado para "activar" especies reactivas y crear nuevas especies químicas que son más fácilmente absorbidas para ayudar en el proceso de deposición reactiva ("reactive ion plating")

Desventajas de la galvanoplastia iónica

1. Hay muchas variables de procesamiento que controlar.

2. A menudo es difícil obtener un bombardeo iónico uniforme sobre la superficie del sustrato, lo que provoca variaciones en la propiedad de la película sobre la superficie.

3. El calentamiento del sustrato puede ser excesivo.

4. Bajo ciertas condiciones, el gas de bombardeo puede incorporarse a la película en crecimiento.

5. En algunas condiciones, el bombardeo puede generar una tensión residual excesiva en la película de compresión.

6. El recubrimiento iónico se utiliza para depositar recubrimientos duros de materiales compuestos, recubrimientos metálicos adherentes, recubrimientos ópticos de alta densidad y recubrimientos conformes en superficies complejas.

7. Gotas que pueden afectar a la superficie del revestimiento.

Aplicaciones

Accesorios para baño y ducha

Se aplica a los artículos sanitarios y a la fontanería

Manijas de las puertas, cierres, cajas fuertes y cerraduras

Productos de vidrio y cerámica

Gafas

Instrumentos de escritura

Sólo por nombrar algunos, pero para más aplicaciones, por favor contacte con Royal Technology.