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Mira de cerca

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Por qué las pantallas de alta definición y la tecnología de medición ultraestable forman la pareja perfecta.

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Los desarrollos tecnológicos actuales siguen una tendencia común en muchos sectores industriales: los productos son cada vez más complejos, más potentes y más grandes, mientras que los componentes y las estructuras de los objetos son cada vez más pequeños y más compactos.

Esta afirmación también se aplica a la tecnología de fabricación de pantallas, una de las principales aplicaciones del interferómetro diferencial SP 5000 DI desarrollado por SIOS.

Consideremos, por ejemplo, la pantalla 8K más grande del mundo de Sharp: tiene una resolución de 7680 x 4320 píxeles y una gigantesca diagonal de pantalla de 304,8 cm. Sin embargo, fabricar los componentes optoelectrónicos para mostrar cada píxel es un enorme desafío tecnológico. Consiste en controlar electrónicamente las microestructuras y disponerlas a igual distancia unas de otras. El requisito general para el llamado stitching -la alineación de las estructuras individuales- es del orden de 45 nm/m. Esto es aproximadamente comparable a la alineación perfecta de los huesos de las cerezas (Ø 8-10 mm) en la superficie total de Turingia.

Sin embargo, los requisitos no sólo aumentan para la fabricación de productos electrónicos o la industria de los semiconductores, sino también, cada vez más, para ámbitos como la gestión de materiales, la fabricación de herramientas y la ingeniería mecánica con tolerancias de fabricación muy ajustadas.

Todos los requisitos tienen lo siguiente en común: los componentes y las estructuras de los objetos deben producirse, verificarse y medirse.

La interferometría láser es el único método en la medición de longitudes que es capaz de combinar una enorme resolución con un gran rango de medición.

El problema más difícil a la hora de resolver las tareas de medición es que los procesos de producción de las pantallas descritas no tienen lugar en condiciones ideales en el vacío, sino que están expuestos a las influencias fluctuantes del entorno, como la temperatura, la presión atmosférica o la humedad.

El mayor reto y al mismo tiempo la innovación en el desarrollo de un interferómetro es encontrar o combinar materiales y componentes electrónicos de alta tecnología adecuados para su uso industrial, que tengan propiedades térmicas y físicas lo más estables posible para garantizar una alta precisión de las mediciones incluso durante un periodo de tiempo más largo y con influencias ambientales fluctuantes.

SIOS ha conseguido desarrollar un interferómetro láser diferencial ultraestable y rápido para la medición de longitudes y ángulos con una resolución en el rango de los picómetros para uso industrial.

El interferómetro láser diferencial ultraestable SP 5000 DI se caracteriza por una estabilidad térmica única y puede utilizarse también para mediciones a largo plazo en investigación y desarrollo, por ejemplo, para investigaciones de materiales.

Los desarrolladores del SIOS han conseguido crear un interferómetro 25 veces más estable que sus competidores. En el futuro, el SIOS también podrá satisfacer las exigencias de su grupo objetivo.